電子束蒸發

電子束蒸發

電子束加熱安裝及特點

電子束經過5-10KV 的電場后被增速,然后聚焦到被蒸發的質料外表,把能量轉達給待蒸發的質料使其熔化并蒸發.

無沾染:與坩堝交往的待蒸發質料堅持固態安定,蒸發質料與坩堝產生反響的約莫性很小.(坩堝水冷)

熱電子發射(金屬在低溫形態時, 其內里的一局部電子取得充足的能量而逸出外表); 電子在電場中增速;聚焦電子束; 聚焦電子束轟擊被鍍質料外表, 使動能變成熱能.

直式槍: 高能電子束轟擊質料將發射二次電子,二次電子轟擊薄膜會招致膜層布局粗糙, 吸取增長, 勻稱性變差.

e形槍: 蒸發質料與陰極分開 (單獨處于磁場中),二次電子因遭到磁場的作用而再次產生偏轉, 大大變小了向基板發射的幾率.

電子束蒸發的特點

難熔物質的蒸發;以較大的功率密度完成快速蒸發,避免合金分餾;同著安裝多個坩堝,同時或分散蒸發多種不同物質;大局部電子束蒸發體系接納磁聚焦或磁彎曲電子束,蒸發物質放在水冷坩堝內.蒸發產生在質料外表, 好效克制坩堝與蒸發質料之間的反響,合適制備高純薄膜,可以制備光學、電子和光電子范疇的薄膜質料,如Mo、Ta、Nb、MgF2、Ga2Te3、TiO2、Al2O3、SnO2、Si等;蒸發分子動能較大, 能取得比電阻加熱更安穩致密的膜層電子束蒸劈頭的缺陷:可使蒸發氣體和剩余氣體電離,偶爾會影響膜層質量;電子束蒸鍍安裝布局繁復,價格昂貴; 產生的軟X射線對人體有一定的損傷.